EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Popular News
SEMICON China 2026: Semixlab Inaonyesha Ubunifu wa Mipako ya SiC na TaC kwa Epitaxy ya Semiconductor
2026-04-03
Habari za Kimataifa za Semixlab — Tunafurahi kushiriki sasisho kubwa kutoka kwa mstari wetu wa mbele wa utengenezaji. Mnamo Novemba 27, 2025, mfumo mkuu wa kimuundo wa uzalishaji wetu mkuu na msingi wa Utafiti na Maendeleo—Teknolojia ya Semiconductor ya Zhejiang Liufang—uliongezwa rasmi. Hii inaashiria mafanikio makubwa ya uwezo kwa Semixlab kama mtoa huduma bora wa kimataifa wa vifaa vya hali ya juu vya semiconductor.
Timu ya mradi imeonyesha kile ambacho wakazi wa sekta hiyo wanakiita "Liufang Acceleration", na kubadilisha mradi kutoka awamu ya kimuundo hadi utayarishaji wa vifaa vya mwisho bila shida. Kituo hicho kimeundwa mahususi ili kuhifadhi tanuri za CVD za kizazi kijacho zenye joto la juu, tanuri za utupu zenye kiwango cha juu cha utupu, na seti kamili ya vituo vya usindikaji vya CNC vya usahihi.
Mpangilio wa Kina wa Vifaa Muhimu vya Pan-Semiconductor
Kwa miundombinu hii mipya, Semixlab inaongeza uwezo wake wa utengenezaji wa mnyororo mzima—ikijumuisha upatikanaji wa malighafi (grafiti ya isostatic iliyoagizwa kutoka nje ya nchi), usindikaji wa usahihi, utakaso wa hali ya juu (kufikia viwango vya majivu < 5ppm kupitia upimaji wa GDMS), na utuaji wa CVD wenye utendaji wa hali ya juu.
Msingi mpya utapanua kwa kiasi kikubwa uwezo wa uzalishaji wa mistari ifuatayo ya bidhaa za kimkakati za semiconductor:
| Bidhaa Jamii | Vipimo na Uwezo wa Kiufundi wa Msingi | Matumizi ya Semiconductor ya Msingi |
| Bidhaa Zilizofunikwa na CVD SiC |
• Usafi: >99.99995% • Muundo: 100% FCC β-phase, (111) imeelekezwa • Udhibiti wa Uwiano wa Unene: Ndani ya 10 μm |
• Epitaksi ya Silicon • LED/GaN MOCVD Epitaksi • Sehemu za SiC Epitaxy Halfmoon |
| Bidhaa za Mipako ya TaC |
• Upinzani wa Joto: Hadi 2600°C • Upinzani mkubwa dhidi ya gesi kali (H2, NH3, SiH4) • Nguvu ya kuunganisha mipako yenye kiwango cha juu sana |
• Ukuaji wa fuwele wa nusu-semiconductor ya kizazi cha tatu (SiC/GaN) • Sehemu za joto za kupokanzwa zenye induction ya halijoto ya juu |
| Mipako ya Kaboni ya Pirolitiki (PyC) |
• Uzibaji wa uso mnene na usio na vinyweleo • Jumla ya uchafu < 20ppm • Uadilifu wa hali ya juu wa utupu hadi 1800°C |
• Marekebisho ya hita ya grafiti • Sehemu za ukuaji wa fuwele moja ya CZ/PV Mono-fuwele |
| Kauri na Misombo ya Usafi wa Juu |
• Usafi wa SiC (R-SiC) iliyosindikwa upya >99.96% • Mchanganyiko wa Kaboni-Kaboni (C/C) wenye majivu ≤ 20-65 ppm |
• Mirija ya tanuru na pedi za kusambaza, oksidi, na kufyonza • Pete za RTP/EPI zenye mzigo mkubwa |
Uwezo wa Uzalishaji wa Semixlab na Mistari ya CVD ya Kina
Kujitolea kwa Viwango vya Ubora vya Kimataifa
Vifaa vya kupima maabara vya Semixlab
Ikiungwa mkono na timu ya teknolojia ya kiwango cha dunia inayotoka katika taasisi za kiwango cha juu kama vile Chuo Kikuu cha Zhejiang na Chuo cha Sayansi cha China, mfumo ikolojia wa utengenezaji wa Semixlab hufanya kazi chini ya udhibitisho wa ISO 9001, ISO 14001, na ISO 45001.
Kama He Shaolong, Mkurugenzi Mtendaji na Profesa, alivyosema wakati wa sherehe hiyo, kituo hiki kipya ni jibu muhimu kwa mahitaji ya sekta ya semiconductor duniani ya vipengele thabiti, safi sana, na utendaji wa hali ya juu wa nyenzo. Kuongeza kasi kwa msingi huu kunahakikisha kwamba Semixlab inabaki kuwa mshirika wako mwepesi zaidi, wa kuaminika, na wa kiteknolojia katika mnyororo wa usambazaji wa pan-semiconductor.
Kwa ramani maalum, karatasi za data za kiufundi za GDMS, au vifaa vya majaribio vya kupima vipengele, tafadhali wasiliana na kitengo chetu cha mauzo cha kimataifa moja kwa moja katika Semixlab.
